Browsing Category
Вакуумное оборудование
Конструкция и принцип работы промышленных лазеров
Вне зависимости от разновидности конструкции и принципа работы все лазеры имеют три основных узла: активный элемент, устройство «накачки» и резонатор.
Механизм образования лазерного луча
Слово «лазер» (составлено из начальных букв английского словосочетания Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation) в переводе на русский язык означает «усиление света посредством вынужденного испускания».
Основные характеристики лазерного луча
В технологии электровакуумного производства лазеры (оптические квантовые генераторы) применяются для: сварки, резки, сверления и прошивки отверстий, гравировки, обезгаживания материалов и деталей, оплавления заусенцев, закалки поверхности…
Технология и оборудование магнетронного нанесения покрытий
Магнетронные установки распыления имеют диодную конструкцию и в них используются скрещенные электрические и магнитные поля
Плазменное нанесение покрытий
Плазменный метод нанесения покрытий имеет следующие преимущества: покрытия имеют плотную и однородную структуру, что объясняется высокой кинетической энергией
Плазменная очистка
Различают три разновидности плазменной очистки: плазмохимическую, ионную и ионно-химическую.
Плазменная сварка и резка
К основным преимуществам плазменной сварки относятся: высокая концентрация мощности и возможность сварки любых тугоплавких металлов и сплавов; возможность получения тонких чистых сварочных швов.
Основные характеристики плазменного факела
Основными параметрами плазменного факела являются состав и температура, скорость истечения, давление на выходе, теплосодержание и плотность энергии газов.
Конструкция и принцип действия плазмотронов
Установки для плазменной обработки называются плазмотронами (плазменными горелками). В плазмотрон подается плазмообразующий газ.
Основные сведения о плазме
Плазма — газообразное состояние вещества, при котором оно полностью или частично ионизировано под воздействием температуры, излучения, электрического разряда, высокочастотного электрического поля или других факторов.